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1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

產(chǎn)品應(yīng)用:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

關(guān)鍵詞:

預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

圖片名稱

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  • 產(chǎn)品描述
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    • 商品名稱: 1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
    • 商品編號(hào): 1034429634549997568

    產(chǎn)品應(yīng)用:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

    銷售熱線:15122725930 

     

    產(chǎn)品應(yīng)用:

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

    產(chǎn)品組成:

    PECVD系統(tǒng)配置:

    1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐

    2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配置管內(nèi)測(cè)溫系統(tǒng)。

    3.預(yù)加熱開啟式管式電爐

    4.等離子射頻電源

    5.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

    6.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

    產(chǎn)品特點(diǎn):

    生長(zhǎng)溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設(shè)備簡(jiǎn)單。

    關(guān)鍵詞:
    • 預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
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